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FPD/PCB NEWS〜2月21日
 

アルバック 韓国に研究開発拠点を新設

 アルバックは、韓国現地法人ULVAC KOREA(京畿道平澤市)に新たな研究開発拠点「Technology Center PYEONGTAEK」を建設すると発表した。ユーザーの近くで製品・技術開発を加速しコラボレーションと技術サポートを強化するのが狙いで、2024年3月に完成する予定。

 Technology Center PYEONGTAEKは3月に着工。敷地面積は約1万1,550m2、延床面積は約1万3,168m2。投資額は約60億円。

FPD/PCB NEWS〜2月20日
 

東芝エネルギーシステムズ 大面積フィルム型ペロブスカイト太陽電池を東急鉄道駅向けに提供

 東芝エネルギーシステムズは、桐蔭学園、東急、東急電鉄、横浜市の4者が東急田園都市線・青葉台駅正面口改札前自由通路で実施するペロブスカイト太陽電池の先行実証実験向けに大面積フィルム型ペロブスカイト太陽電池を実験資材として提供すると発表した。
 ペロブスカイト太陽電池の特長である屋内光の下での発電実証実験を行って性能を確認し、既存建物、駅、車両、高架橋などへの活用方法の検討に活かす。

 提供するフィルム型ペロブスカイト太陽電池は、東芝独自のメニスカス塗布法を用いることにより大面積デバイスとしては世界最高のエネルギー変換効率(16.6%)を実現している。

FPD/PCB NEWS〜2月17日
 

産総研 水蒸気を含むガスからメタノール溶媒だけを回収する吸着材を開発

 産業技術総合研究所(産総研)は青色顔料として使われるプルシアンブルーを改良し、メタノールを回収・濃縮できる新しい吸着材を開発したと発表した。

 水に比べメタノールを強く吸着する吸着材を開発した。吸着材であるプルシアンブルーを構成する金属イオンの種類と組成をメタノールの分子構造に合わせて最適設計した結果、メタノールの吸着量は活性炭の5倍以上に。また、メタノール回収の際に同時に吸着してしまう水蒸気を70℃の加熱処理で除去でき、より強く吸着しているメタノールと分離することができる。さらに、水蒸気を除去した後、150℃に加熱することで95wt%という高濃度メタノールが回収できた。

FPD/PCB NEWS〜2月16日
 

コニカミノルタ 国内デバイス生産拠点のコニカミノルタメカトロニクスを事業別に分割

 コニカミノルタは、国内デバイス生産拠点であるコニカミノルタメカトロニクス(愛知県豊川市)を事業別に分割すると発表した。

 再編では情報機器、インクジェット(IJコンポーネント)、光学コンポーネントの事業毎の3会社に分割。それぞれの事業最適化視点で意思決定の迅速化や機能・リソースの再配置を推進し、事業競争力と価値創造力を一層高める。

FPD/PCB NEWS〜2月15日
 

東大とJSR 螺旋構造をとる直方晶タングステンを発見

 東京大学大学院理学系研究科の石河孝洋特任助教、常行真司教授、林将光准教授らは、JSRとの包括連携拠点CURIEにおける共同研究によって大きなスピンホール効果を示す直方晶タングステン(W)を第一原理電子状態計算で予測することに成功した。

 進化的アルゴリズムを用いた結晶構造探索手法をWに適用した結果、これまでに知られている立方晶のα相・β相に加え、新たに15種類の準安定構造が得られた。このうちのひとつである直方晶構造はα相に相当する体心立方構造の螺旋変形によって形成されており、スピンホール効果が巨大スピン流の発生が観測されているβ相の1.2倍に増大すると予測した。

FPD/PCB NEWS〜2月9日
 

日置電機 HIOKIイノベーションセンター内に「協創ラボ」を新設

 日置電機は、HIOKIイノベーションセンター(研究棟)内に協創ラボを新設すると発表した。2023年4月上旬より稼働する予定。

 協創ラボでは、共同実験が可能な実験室を6部屋整備。また、歓談スペースを追加する。開発分野と導入設備例は@バッテリー:材料混合からセル試作までの設備を導入し、電池の開発・生産工程を最適化するソリューションを開発、Aパワーエレクトロニクス:モーターベンチ評価装置を導入し、モーターやインバーターの高精度測定に必要な技術や機能を開発、B水素:燃料電池セル(FC)、水電解セル(EC)評価装置を導入し、FC、ECの動的セル特性を可視化。

FPD/PCB NEWS〜2月7日
 

九大、阪大、産総研 六方晶窒化ホウ素の大面積合成とグラフェン集積デバイスを実現

 九州大学グローバルイノベーションセンターの吾郷浩樹主幹教授、パブロ・ソリス-フェルナンデス特任准教授、研究スタッフの深町悟氏、大阪大学産業科学研究所の末永和知教授、産業技術総合研究所のユンチャン・リン主任研究員らの研究グループは、化学気相成長法で均一な多層の六方晶窒化ホウ素を合成し、それを用いてグラフェンデバイスの特性を向上させるることに成功した。

 とくに、六方晶窒化ホウ素の合成法に加え、グラフェンとの積層法やクリーニング法を最適化することにより大面積に並んだグラフェンのデバイス特性を2倍以上に高めた。

FPD/PCB NEWS〜2月6日
 

東大と大阪公立大 界面制御により高性能な有機無機ハイブリッド材料を開発

 東京大学大学院総合文化研究科の寺尾潤教授、正井宏助教、周聖頴大学院生(研究当時)、大阪公立大学大学院工学研究科の山田裕介教授らの研究グループは、無機材料上の有機分子の一つ一つが環状の分子で覆われたロタキサン構造を用いることで界面における分子の塊を抑制し、人工的に分子を整理させる新しい戦略を報告した。

 このハイブリッド材料を電気によって酸素をより高エネルギーな過酸化水素へ変換する電気化学触媒として応用したところ、高効率な触媒になることが判明。今後、この整理整頓された界面を触媒だけでなく、発光デバイスや太陽電池などへ展開し、より高効率なデバイス材料の実現を目指す。

FPD/PCB NEWS〜2月3日
 

日本曹達 半導体フォトレジスト材料製造設備の生産能力を増強

 日本曹達は、半導体フォトレジスト材料「VPポリマー」製造設備の生産能力を増強すると発表した。

 VPポリマー(ポリパラヒドロキシスチレン)は、半導体用のKrFフォトレジスト材料として使用される。今回の能力増強では、千葉工場(千葉県市原市)の生産能力を2倍に増強する。投資額は25億円で、2024年度下期に完成する予定。