有機EL素子の構造と種類
スタンダード素子
■低分子蛍光素子
■低分子燐光素子
■高分子蛍光素子
■高分子燐光素子
■低分子＆高分子ハイブリッド素子
■ヘテロ接合素子
■ホモ接合素子
特殊素子
■マルチフォトンエ ミッション素子
■明順応発光素子
■ファイバー型デバイス
ハイブリッドデバイス
■有機EL＆有機薄膜太陽電池ハイブリッドデバイス(明順応発光デバイス、スタックデバイス)
■PDLC＋有機EL＋有機薄膜太陽電池ハイブリッドデバイス
■ミラーディスプレイ
■透明有機EL＋電子ペーパーハイブリッドモジュール
3D化技術
■特殊メガネを用いる方式(液晶シャッターグラス方式、偏光メガネ＋パターン化位相差フィルム方式)
■特殊グラスフリー方式(パララックスバリア方式、FS駆動＋パララックス液晶バリア方式、レンチキュラー方式)
有機ELディスプレイの種類と製造フロー
■低分子3色独立発光方式パッシブマトリクス駆動フルカラーパネル
■低分子3色独立発光方式アクティブマトリクス駆動フルカラーパネル
(ボトムエミッションパネル、トップエミッションパネル、デュアルエミッションパネル、逆構造トップエミッションパネル)
■マイクロキャビエィ型低分子3色独立発光＋CF方式アクティブマトリクス駆動フルカラーパネル
■低分子CCM方式パッシブマトリクス駆動フルカラーパネル
■低分子CCM方式アクティブマトリクス駆動フルカラーパネル
■低分子CF＋白色発光方式パッシブマトリクス駆動フルカラーパネル
■低分子CF＋白色発光方式アクティブマトリクス駆動フルカラーパネル
■低分子COA方式アクティブマトリクス駆動フルカラーパネル
■低分子アクティブマトリクス駆動フルカラーQD-OLEDパネル
■高分子3色独立発光方式パッシブマトリクス駆動フルカラーパネル
(ボトムエミッションパネル、トップエミッションパネル、デュアルエミッションパネル)
■高分子3色独立発光方式アクティブマトリクス駆動フルカラーパネル
■低分子＆高分子ハイブリッド型3色独立発光方式アクティブマトリクス駆動フルカラーパネル
■薄膜封止パネル(ガラスサブストレート)
■薄膜封止パネル(プラスチックサブストレート)
有機ELディスプレイの製造プロセス(各論)
■透明アノード形成プロセス
■メタルアノード形成プロセス
■補助電極形成プロセス
■絶縁層形成プロセス
■カソードセパレータ形成プロセス
■バンク(リブ)形成プロセス
■ブラックマトリクス形成プロセス
■カラーフィルタ形成プロセス
■色変換層形成プロセス
■QD色変換層形成プロセス
■パッシベーション形成プロセス
■平坦化膜形成プロセス
■ホール輸送層/ホール注入層/電子輸送層/ホール阻止層形成プロセス
■RGB発光層形成プロセス
■白色発光層形成プロセス
■青系発光層形成プロセス
■アルカリバッファ層/アルカリドーピング層形成プロセス
■メタルカソード形成プロセス
■光透過性カソード形成プロセス
■アクティブ素子形成プロセス(低温Poly-Si TFT、転写方式低温Poly-Si TFT、a-Si TFT、マイクロシリコンTFT、IGZO-TFT、有機TFT)
■シール層形成プロセス
■キャップ封止プロセス
■固体封止プロセス
■薄膜封止プロセス
■光取り出し効率向上メソッド・製造プロセス
■フレキシブル基板製有機ELD作製における注意点
※なお、CD-ROMでの動作は保証していますが、HDDなどへコピーされた場合の動作は保証していません。
