三菱マテリアル 兵庫・三田工場にスパッタリングターゲットの量産技術センターを新設

　三菱マテリアルは、基幹工場である三田工場(兵庫県三田市)にスパッタリングターゲットの開発・製造を行う「量産技術センター」を新設したと発表した。

　量産技術センターには第10世代対応の円筒型・大型平板スパッタリングターゲット開発設備・生産設備を導入。ユーザーニーズにタイムリーに対応する製品の開発・製造体制を強化する。

住友化学 千葉工場にPESの第2プラントを建設

　住友化学は、ポリエーテルサルホン(PES)の製造設備を千葉工場(千葉県市原市)に新設すると発表した。

　年産能力は3000トンで、2018年の量産開始を予定している。この結果、愛媛工場(愛媛県新居浜市)の既存設備と合わせ、増強後の生産能力は倍増する。

NIMS ハサミで好きな形に切れるディスプレイを開発

　物質・材料研究機構は、ハサミで好きな形に切れるディスプレイを開発したと発表した。衣服や建物など複雑な形状に張り付けて使用するなど、従来のディスプレイでは表現できないさまざまな用途への利用が有効としている。

　ディスプレイデバイスには、エレクトロクロミック特性を持つポリマー(有機/金属ハイブリッドポリマー)を使用。このポリマーはスプレーコートすることによりフレキシブル基板上に成膜でき、さらに湿気や酸素に対する高い安定性を有する。また、表示を変えるには電気を数秒流すだけでよく、電源を切っても表示が保持できる。このため、電源ユニットを取り外して使用でき、好きな形に切り取った後でも表示を変えることができる。

今後、研究グループは大面積化と多色化にトライ。そして、乗り物や建物の窓や外装・内装、傘やサングラスなどさまざまなものの色を自由に変えたり、必要に応じて文字や記号を表示できる“色の着替えを楽しむ新しいライフスタイル”を提案していく。

東ソー 屈曲可能なディスプレイ向け高性能ガスバリア材料を開発

　東ソーは、画面が屈曲するフレキシブルディスプレイ向けとして高性能ガスバリア材料「開発品名：TG-4E」を開発したと発表した。

　TG-4EはPECVD法によって成膜。従来材料であるヘキサメチルジシロキサンに比べ10倍以上というガスバリア性を誇る。また、黄変せず、高い透明度を確保。さらに、膜は伸縮性が高いため、耐クラック性・耐屈曲性に優れ、加温による樹脂フィルムの伸張にも対応可能だという。

日立化成 高純度の酸化セリウム粒子系CMPスラリーの基本特許を取得

　日立化成は、半導体回路平坦化用研磨材料(CMPスラリー)の一種である高純度酸化セリウム粒子系CMPスラリーの基本特許第5882659号を取得したと発表した。

　同社は酸化セリウム粒子系CMPスラリーを用いた研磨において半導体ウェハーへの傷を抑制できる高純度化技術を開発し、研磨傷の原因となるケイ素系不純物を1ppm以下に低減することに成功。この技術を用いた高純度酸化セリウム粒子系CMPスラリーに関し2003年に特許出願していた。

新日鉄住金マテリアルズ 熱硬化性と熱可塑性の長所を両立した炭素繊維熱可塑性プリプレグを発売

　新日鉄住金マテリアルズは、現場重合(硬化)型新規フェノキシ樹脂を用いた炭素繊維熱可塑性プリプレグ「NS-TEPreg」を開発したと発表した。

　NS-TEPregは従来の熱硬化性プリプレグの良好な作業性を維持したまま、成形しCFRTPとなってもCFRPと同等の優れた強度・剛性を実現。熱可塑性の耐衝撃性、二次加工性も有するという両方の長所を両立した画期的な新材料だという。

パナソニック CRT事業に係る欧州での制裁金が143億円で確定

　パナソニックは、CRT(ブラウン管)事業にかかわる欧州普通裁判所の判決について欧州司法裁判所に上告していたが、欧州司法裁判所より上告を棄却する通知を受けたと発表した。この結果、課された制裁金は1億2886万ユーロ(約143億円)となることが確定した。

産総研 3次元物体表面に多層CNTを成長させる簡便な方法を開発

　産業技術総合研究所(産総研)はマイクロフェーズと共同で、多層カーボンナノチューブ(CNT)を金属や炭素材料からなる3次元物体表面に成長させる方法を開発した。CVD法によるCNTの成長に必要な金属触媒担持層を従来のスパッタリング法に代わって、大気雰囲気中で粒子ブラスト法により形成することに成功した。

　開発した成長法は、さまざまな金属や炭素材料の3次元形状の物体表面に多層CNTを簡便に成長させることができる。この結果、例えば円筒形状のレンズ鏡筒内部に多層CNTを直接成長させて鏡筒内の散乱光を抑制することにより、カメラや天体望遠鏡の解像度・光感度を大幅に向上させることが期待できる。また、単層CNTと多層CNTのどちらの成長にも必要な金属触媒担持層の成膜法として簡便でローコストの粒子ブラスト法を用いるため、その条件制御により成長するCNTの特性を制御できる可能性がある。